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操作手冊
| 割炬HC-4200 | |||||
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1、長焦距設計 有效提高弧柱壓縮密度和弧長，增強電弧穿透能力 2、內循環(huán)雙冷卻 電極和噴口采用獨li冷卻方式，不僅提升割炬使用功率，聚焦等離子弧柱，且一定程度上提高易損件壽命，提高切割品質 3、雙氣路渦旋技術 內置分配器和外置渦流環(huán)，氣體更均勻，弧柱壓縮更聚焦 4、支持純氧和富氧工藝 提高切割效率，提升切割品質，實現高精細切割質量 5、多功能 無需更換本體，只需更換易損件，即可實現干式/水霧 功能轉換，不僅可以水上切割，而且支持水下切割 |
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| 割炬型號 | 承載電流 | 穿孔厚度（mm） | 質量切割（mm） | 切割上限（mm） | 冷卻方式 |
| HC-4200 | 60-420A | 50 | 30 | 80 | 水冷 |
產品資料
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HC-4200安裝視頻 修改.mp4
5,975.4KB
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1、長焦距設計 有效提高弧柱壓縮密度和弧長，增強電弧穿透能力 2、內循環(huán)雙冷卻 電極和噴口采用獨li冷卻方式，不僅提升割炬使用功率，聚焦等離子弧柱，且一定程度上提高易損件壽命，提高切割品質 3、雙氣路渦旋技術 內置分配器和外置渦流環(huán)，氣體更均勻，弧柱壓縮更聚焦 4、支持純氧和富氧工藝 提高切割效率，提升切割品質，實現高精細切割質量 5、多功能 無需更換本體，只需更換易損件，即可實現干式/水霧 功能轉換，不僅可以水上切割，而且支持水下切割 |
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| 割炬型號 | 承載電流 | 穿孔厚度（mm） | 質量切割（mm） | 切割上限（mm） | 冷卻方式 |
| HC-4200 | 60-420A | 50 | 30 | 80 | 水冷 |
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